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機械密封端面平面度檢驗方法
2015-06-05 來源: 作者:正航網(wǎng)絡(luò)部 閱讀:次
機械密封端面平面度檢驗方法
1 范圍
本標準規(guī)定了機械密封端面平面度的術(shù)語和定義、檢驗裝置、檢驗程序、平面度測定值的判讀等內(nèi)容。
本標準適用于采用單色光源的光學法檢驗機械密封環(huán)端面平面度。
2 術(shù)語和定義
下列術(shù)語和定義適用于本文件。
2.1
干涉圖 interference figure
光波干涉產(chǎn)生的干涉條紋(亮帶或暗帶)所組成的圖形。
2.2
干涉光譜帶(光帶) interference spectral band
干涉圖上的暗帶。
3 檢驗裝置
3.1 推薦使用的檢驗裝置結(jié)構(gòu)見附錄B。
3.2 光源應(yīng)為單色光源,推薦使用鈉光源。
3.3 檢驗用光學平晶應(yīng)為一級精度(其平面度應(yīng)在0.02 μm~0.10 μm 之間),光學平晶的直徑應(yīng)大于被檢密封環(huán)端面的外徑。
3.4 裝置放置在干燥、潔凈、避免振動干擾的工作間內(nèi)。
3.5 裝置要有一定的保護元件,避免光束直接照射到觀察者的皮膚或眼睛。
3.6 如果采用反光鏡觀察,應(yīng)保證反光鏡沒有變形和失真。
4 檢驗程序
4.1 檢驗時,環(huán)境溫度應(yīng)控制在(20±5)℃。
4.2 打開平面度檢測儀的電源開關(guān),預熱至燈管充分發(fā)光。
4.3 清除被檢密封環(huán)密封端面和光學平晶表面上的纖維、顆粒、油漬、水汽等污物,且使密封環(huán)密封端面和光學平晶表面不受損傷,并且保持這些表面在檢驗過程中不被再次污染。
4.4 將被檢密封環(huán)輕輕放置在光學平晶上(或?qū)⑵骄лp輕放置在密封環(huán)上),使密封環(huán)端面和光學平晶緊密接觸,出現(xiàn)干涉帶,判讀光譜帶數(shù)時不應(yīng)使其受到附加外力的作用。
4.5 通過鏡面觀察密封端面的干涉圖形(或透過光學平晶觀察密封端面上的干涉圖形),判讀干涉光譜帶。
5 平面度測定值的判讀
5.1 平面度測定值的判讀按附錄A 的規(guī)定。每組圖由左向右第2、3 個為待測平面與平晶成楔形位干涉圖,其余4 個為待測平面與平晶平行接觸位干涉圖。光帶條數(shù)為線段AB 穿過暗帶的條數(shù)。對于附錄A 未含的圖形,判讀者應(yīng)在正確理解應(yīng)用光干涉原理的基礎(chǔ)上,參照附錄A 的圖例進行判讀。
5.2 球形凸面和球形凹面確定方法如下:
a)觀察干涉圖由上向下移動眼睛,若干涉光譜帶向圓心移動,則為球形凹面;若干涉光譜帶向外徑移動,則為球形凸面。
b)用手指輕輕地在平晶或密封環(huán)外邊上加壓,若干涉光譜帶圍著手指彎曲,則為球形凸面;若干涉光譜帶向手指外彎曲,則為球形凹面。
5.3 平面度的測定值應(yīng)按式(1)計算:

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