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機械密封端面平面度檢驗方法
2015-06-05    來源:    作者:正航網(wǎng)絡(luò)部  閱讀:
機械密封端面平面度檢驗方法
范圍
本標準規(guī)定了機械密封端面平面度的術(shù)語和定義、檢驗裝置、檢驗程序、平面度測定值的判讀等內(nèi)容。
本標準適用于采用單色光源的光學法檢驗機械密封環(huán)端面平面度。
術(shù)語和定義
下列術(shù)語和定義適用于本文件。
2.1
干涉圖 interference figure
光波干涉產(chǎn)生的干涉條紋(亮帶或暗帶)所組成的圖形。
2.2
干涉光譜帶(光帶) interference spectral band
干涉圖上的暗帶。
檢驗裝置
3.1 推薦使用的檢驗裝置結(jié)構(gòu)見附錄B。
3.2 光源應(yīng)為單色光源,推薦使用鈉光源。
3.3 檢驗用光學平晶應(yīng)為一級精度(其平面度應(yīng)在0.02 μm0.10 μ之間),光學平晶的直徑應(yīng)大于被檢密封環(huán)端面的外徑。
3.4 裝置放置在干燥、潔凈、避免振動干擾的工作間內(nèi)。
3.5 裝置要有一定的保護元件,避免光束直接照射到觀察者的皮膚或眼睛。
3.6 如果采用反光鏡觀察,應(yīng)保證反光鏡沒有變形和失真。
檢驗程序
4.1 檢驗時,環(huán)境溫度應(yīng)控制在(20±5)℃。
4.2 打開平面度檢測儀的電源開關(guān),預熱至燈管充分發(fā)光。
4.3 清除被檢密封環(huán)密封端面和光學平晶表面上的纖維、顆粒、油漬、水汽等污物,且使密封環(huán)密封端面和光學平晶表面不受損傷,并且保持這些表面在檢驗過程中不被再次污染。
4.4 將被檢密封環(huán)輕輕放置在光學平晶上(或?qū)⑵骄лp輕放置在密封環(huán)上),使密封環(huán)端面和光學平晶緊密接觸,出現(xiàn)干涉帶,判讀光譜帶數(shù)時不應(yīng)使其受到附加外力的作用。
4.5 通過鏡面觀察密封端面的干涉圖形(或透過光學平晶觀察密封端面上的干涉圖形),判讀干涉光譜帶。
平面度測定值的判讀
5.1 平面度測定值的判讀按附錄的規(guī)定。每組圖由左向右第2、個為待測平面與平晶成楔形位干涉圖,其余個為待測平面與平晶平行接觸位干涉圖。光帶條數(shù)為線段AB 穿過暗帶的條數(shù)。對于附錄未含的圖形,判讀者應(yīng)在正確理解應(yīng)用光干涉原理的基礎(chǔ)上,參照附錄的圖例進行判讀。
5.2 球形凸面和球形凹面確定方法如下:
a)觀察干涉圖由上向下移動眼睛,若干涉光譜帶向圓心移動,則為球形凹面;若干涉光譜帶向外徑移動,則為球形凸面。
b)用手指輕輕地在平晶或密封環(huán)外邊上加壓,若干涉光譜帶圍著手指彎曲,則為球形凸面;若干涉光譜帶向手指外彎曲,則為球形凹面。
5.3 平面度的測定值應(yīng)按式(1)計算:平面度的測定值應(yīng)按式(1)計算
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